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　　真空狀態(tài)是支持真空鍍膜機運作的環(huán)境，需要高真空度的設(shè)備，通常我們需要到高真空度，抽氣系統(tǒng)的作用是很重要的，但除了抽氣系統(tǒng)外，在真空鍍膜設(shè)備運行的過程中，還有一點就是，工件的除氣。有些工件它本身內(nèi)部存在著，很多的氣體、水分等，這些物質(zhì)會隨著設(shè)備加熱時，被排放到真空室中，降低了真空度，有些氣體帶有毒性成分，直接損害到真空室內(nèi)部機械結(jié)構(gòu)，造成設(shè)備不能正常運作。
　　另外，正在鍍膜過程中，由于工件內(nèi)氣體加熱膨脹，容易使已經(jīng)鍍上的膜層裂開，當然這個情況出現(xiàn)的機率視工件本身物理性質(zhì)有關(guān)，像塑料等容易膨脹的，機率就比較高，像金屬等硬質(zhì)的，機率就比較低，但也不能忽視，因此工件的除氣是很重要的。