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　　所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi)，真空鍍膜設(shè)備的多弧離子鍍膜采用對(duì)應(yīng)方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。
　　多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)，可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。
　　真空鍍膜設(shè)備的多弧離子鍍膜工藝不但避免了傳統(tǒng)表面處理的不足，且各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)不錯(cuò)，在五金、機(jī)械、化工、模具、電子、儀器等領(lǐng)域有很廣應(yīng)用。催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比，在技術(shù)上有哪些改進(jìn)？
　　1、多弧離子鍍膜不用電、節(jié)省了成本、成本為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜設(shè)備的多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復(fù)利用，大大節(jié)省了成本。
　　2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時(shí)不經(jīng)處理。